3 (a) H. Sasabe, J. Takamatsu, T. Motoyama, S. Watanabe,
G. Wagenblast, N. Langer, O. Molt, E. Fuchs, C. Lennartz and
J. Kido, Adv. Mater., 2010, 22, 5003; (b) M. Bandini, M. Bianchi,
G. Valenti, F. Piccinelli, F. Paolucci, M. Monari, A. Umani-Ronchi
and M. Marcaccio, Inorg. Chem., 2010, 49, 1439.
4 (a) S. C. F. Kui, I. H. T. Sham, C. C. C. Cheung, C. W. Ma,
B. Q. Yan, N. Y. Zhu, C. M. Che and W. F. Fu, Chem.–Eur. J.,
2007, 13, 417; (b) Y. Unger, D. Meyer, O. Molt, C. Schildknecht,
I. Munster, G. Wagenblast and T. Strassner, Angew. Chem., Int.
Ed., 2010, 49, 10214.
5 (a) H. Xia, Y. Y. Zhu, D. Lu, M. Li, C. B. Zhang, B. Yang and
Y. G. Ma, J. Phys. Chem. B, 2006, 110, 17784; (b) H. Xia, M. Li,
D. Lu, C. B. Zhang, W. J. Xie, X. D. Liu, B. Yang and Y. G. Ma,
Adv. Funct. Mater., 2007, 17, 1757; (c) H. Xia, C. B. Zhang, S. Qiu,
P. Lu, J. Y. Zhang and Y. G. Ma, Appl. Phys. Lett., 2004, 84, 290;
(d) J. H. Yang and K. C. Gordon, Chem. Phys. Lett., 2004, 385,
481.
6 (a) F. Li, M. Zhang, G. Cheng, J. Feng, Y. Zhao, Y. G. Ma, S. Y. Liu
and J. C. Shen, Appl. Phys. Lett., 2004, 84, 148; (b) N. J. Lundin,
A. G. Blackman, K. C. Gordon and D. L. Officer, Angew. Chem.,
Int. Ed., 2006, 45, 2582; (c) G. Che, Z. Su, W. Li, B. Chu, M. Li,
Z. Hu and Z. Zhang, Appl. Phys. Lett., 2006, 89, 103511.
12 M. Zhang, P. Lu, X. M. Wang, H. Xia, W. Zhang, B. Yang, L. L. Liu,
L. Yang, M. Yang, Y. G. Ma, J. K. Feng and D. J. Wang, Thin Solid
Films, 2005, 477, 193.
13 (a) D. L. Reger, R. P. Watson, M. D. Smith and P. J. Pellechia,
Organometallics, 2006, 25, 743; (b) N. M. Shavaleev, A. Barbieri,
Z. R. Bell, M. D. Ward and F. Barigelletti, New J. Chem., 2004, 28,
398; (c) D. L. Reger, R. P. Watson and M. D. Smith, J. Organomet.
Chem., 2007, 692, 3094.
14 (a) Q. H. Wei, G. Q. Yin, L. Y. Zhang and Z. N. Chen, Inorg. Chem.,
2006, 45, 10371; (b) F. Kennedy, N. M. Shavaleev, T. Koullourou,
Z. R. Bell, J. C. Jeffery, S. Faulkner and M. D. Ward, Dalton
Trans., 2007, 1492.
15 (a) W. L. Jia, M. J. Moran, Y. Y. Yuan, Z. H. Lu and S. N. Wang, J.
Mater. Chem., 2005, 15, 3326; (b) Y. Kubo, M. Yamamoto, M. Ikeda,
M. Takeuchi, S. Shinkai, S. Yamaguchi and K. Tamao, Angew.
Chem.,Int. Ed., 2003, 42, 2036.
16 Z. Y. Ge, T. Hayakawa, S. Ando, M. Ueda, T. Akiike, H. Miyamoto,
T. Kajita and M. Kakimoto, Org. Lett., 2008, 10, 421.
17 K. K. W. Lo, J. S. Y. Lau, V. W. Y. Fong and N. Y. Zhu,
Organometallics, 2004, 23, 1098.
18 S. Ranjan, S. Y. Lin, K. C. Hwang, Y. Chi, W. L. Ching, C. S. Liu,
Y. T. Tao, C. H. Chien, S. M. Peng and G. H. Lee, Inorg. Chem.,
2003, 42, 1248.
19 L. Sacksteder, A. P. Zipp, E. A. Brown, J. Streich, J. N. Demas and
B. A. DeGraff, Inorg. Chem., 1990, 29, 4335.
20 M. M. Richter, J. D. Debad, D. R. Striplin, G. A. Crosby and
A. J. Bard, Anal. Chem., 1996, 68, 4370.
7 (a) C. B. Liu, J. Li, B. Li, Z. R. Hong, F. F. Zhao, S. Y. Liu and
W. L. Li, Appl. Phys. Lett., 2006, 89, 243511; (b) X. Li,
D. Y. Zhang, W. L. Li, B. Chu, L. L. Han, J. Z. Zhu, Z. S. Su,
D. F. Bi, D. Wang, D. F. Yang and Y. R. Chen, Appl. Phys. Lett.,
2008, 92, 083302; (c) Z. J. Si, J. Li, B. Li, F. F. Zhao, S. Y. Liu and
W. L. Li, Inorg. Chem., 2007, 46, 6155.
21 (a) V. W. W. Yam, K. Z. Wang, C. R. Wang, Y. Yang and
K. K. Cheung, Organometallics, 1998, 17, 2440; (b) S. Das and
B. K. Panda, Polyhedron, 2006, 25, 2289.
8 A. J. Lees, Coord. Chem. Rev., 1998, 177, 3.
9 (a) M. V. Werrett, D. Chartrand, J. D. Gale, G. S. Hanan,
J. G. Maclellan, M. Massi, S. Muzzioli, P. Raiteri, B. W. Skelton,
M. Silberstein and S. Stagni, Inorg. Chem., 2011, 50, 1229; (b)
J. M. Villegas, S. R. Stoyanov, W. Huang and D. P. Rillema,
Dalton Trans., 2005, 1042; (c) R. Horvath, C. A. Otter,
K. C. Gordon, A. M. Brodie and E. W. Ainscough, Inorg. Chem.,
2010, 49, 4073; (d) M. G. Fraser, A. G. Blackman, G. I. S. Irwin,
C. P. Easton and K. C. Gordon, Inorg. Chem., 2010, 49, 5180.
10 (a) Y. Y. Lu, C. C. Ju, D. Guo, Z. B. Deng and K. Z. Wang, J. Phys.
Chem. C, 2007, 111, 5211; (b) M. Mauro, E. Q. Procopio, Y. H. Sun,
C. H. Chien, D. Donghi, M. Panigati, P. Mercandelli, P. Mussini,
G. D‘Alfonso and L. De Cola, Adv. Funct. Mater., 2009, 19, 2607;
(c) W. K. Chan, P. K. Ng, X. Gong and S. J. Hou, Appl. Phys.
Lett., 1999, 75, 3920; (d) Y. P. Wang, W. F. Xie, B. Li and
W. L. Li, Chin. Phys. Lett., 2007, 18, 1501; (e) G. David,
P. J. Walsh and K. C. Gordon, Chem. Phys. Lett., 2004, 383, 292.
11 (a) X. M. Liu, X. Y. Mu, H. Xia, L. Ye, W. Gao, H. Y. Wang and
Y. Mu, Eur. J. Inorg. Chem., 2006, 4317; (b) X. M. Liu, H. Xia,
W. Gao, B. Gao and Y. Mu, J. Coord. Chem., 2009, 62, 400.
22 X. Gong, M. R. Robinson, J. C. Qstrowski, D. Moses, G. C. Bazan
and A. J. Heeger, Adv. Mater., 2002, 14, 581.
23 (a) A. Tsuboyama, H. Iwawaki, M. Furugori, T. Mukaide,
J. Kamatani, S. Igawa, T. Moriyama, S. Miura, T. Takiguchi,
S. Okada, M. Hoshino and K. Ueno, J. Am. Chem. Soc., 2003, 125,
12971; (b) X. Li, D. Zhang, H. Chi, G. Xiao, Y. Dong, S. Wu,
Z. Su, Z. Zhang, P. Lei, Z. Hu and W. Li, Appl. Phys. Lett., 2010,
97, 263303.
24 (a) R. J. Holmes, B. W. D’Andrade, S. R. Forrest, X. Ren, J. Li and
M. E. Thompson, Appl. Phys. Lett., 2003, 83, 3818; (b) H. Xia,
C. B. Zhang, X. D. Liu, S. Qiu, P. Lu, F. Z. Shen, J. Y. Zhang and
Y. G. Ma, J. Phys. Chem. B, 2004, 108, 3185.
25 K. Ye, J. Wang, H. Sun, Y. Liu, Z. Mu, F. Li, S. Jiang, J. Zhang,
Y. Wang and C. M. Che, J. Phys. Chem. B, 2004, 109, 8008.
26 SHELXTL; PC Siemens Analytical X-ray Instruments: Madison WI,
1993.
27 G. M. Sheldrick, SHELXTL Structure Determination Programs,
Version 5.0; PC Siemens Analytical Systems: Madison, WI, 1994.
3492 | J. Mater. Chem., 2012, 22, 3485–3492
This journal is ª The Royal Society of Chemistry 2012