H. P. Rathnayake, A. Cirpan, P. M. Lahti and F. E. Karasz, Chem.
Mater., 2006, 18, 560.
139.5 (dt, J ¼ 252, 15 Hz), 137.9, 134.6–134.5 (m), 133.9, 129.5,
127.1, 124.9, 115.5–115.3(m), 34.3, 31.2; MALDITOF-MS calcd
for C66H60F6: 966.460, found m/z ¼ 966.316. Anal. calcd for
C66H62F6: C 81.96; H 6.25. found: C 81.69; H 6.28%.
7 (a) A. P. Kulkami, A. P. Gifford, C. J. Tozola and S. A. Jenekhe,
Appl. Phys. Lett., 2005, 86, 061106; (b) C. J. Tonzola,
A. P. Kukarni, A. P. Gifford, W. Kaminsky and S. A. Jenekhe,
Adv. Funct. Mater., 2007, 17, 863; (c) S. J. Lee, J. S. Park, K.-
J. Yoon, Y.-I. Kim, S.-H. Jin, S. K. Kang, Y.-S. Gal, S. Kang,
J. Y. Lww, J.-W. Kang, S.-H. Lww, H.-D. Park and J.-J. Kim, Adv.
Funct. Mater., 2008, 18, 3922.
9,10-Bis(3,5-bis(trifluoromethyl)phenyl)-2,3,6,7-tetrakis(4-tert-
butylphenyl)anthracene (3bb)
8 (a) S. Tao, Z. Peng, X. Zhang, P. Wang, C.-S. Lee and S.-T. Lee, Adv.
Funct. Mater., 2005, 15, 1716; (b) C. Tang, F. Liu, Y.-J. Xia, L.-
H. Xie, A. Wei, S.-B. Li, Q.-L. Fan and W. J. Huang, J. Mater.
Chem., 2006, 16, 4074; (c) M. Y. Lo, C. Zhen, M. Lauters,
G. E. Jabbour and A. Sellinger, J. Am. Chem. Soc., 2007, 129, 5808;
(d) K.-C. Wu, P.-J. Ku, C.-S. Lin, H.-T. Shih, F.-I. Wu, M.-
J. Huang, J.-J. Lin, I.-C. Chen and C.-H. Cheng, Adv. Funct.
Mater., 2008, 18, 68; (e) S. Tao, T. Zhou, C.-S. Lee, X. Zhang and
S.-T. Lee, Chem. Mater., 2010, 22, 2138.
9 (a) M. T. Lee, H. H. Chen, C. H. Liao and C. H. Tsai, Appl. Phys.
Lett., 2004, 85, 3301; (b) M. H. Ho, Y. S. Wu, S. W. Wen,
M. T. Lee, T. M. Chen, C. H. Chen, K. C. Kwok, S. K. So,
K. T. Yeung, Y. K. Cheng and Z. Q. Gao, Appl. Phys. Lett., 2006,
89, 252903.
The desired product was sublimed at 265 ꢀC (5 ꢂ 10ꢁ3 Pa) to
afford compound 3bb in 89.1% yield. 1H NMR (600 MHz,
CDCl3) d 8.14 (s, 4H), 8.10 (s, 2H), 7.65 (s, 4H), 7.22 (d, J ¼ 8.4
Hz, 8H), 7.03–7.02 (m, 8H), 1.29 (s, 36H); 13C NMR (150 MHz,
CDCl3): d 150.1, 140.8, 140.2, 137.8, 134.1, 132.2 (q, J ¼ 33),
131.9, 129.4, 127.0, 124.8, 123.4 (q, J ¼ 272 Hz),122.0, 34.5, 31.3;
MALDITOF-MS calcd for C66H62F4: 1132.482, found m/z ¼
1130.348. Anal. calcd for C66H62F4: C 74.19; H 5.69. found: C
74.26; H 5.23%.
Acknowledgements
10 (a) M. Uchida, C. Adachi, T. Koyama and Y. Taniguchi, J. Appl.
Phys., 1999, 86, 1680; (b) F.-I. Wu, P.-I. Shih, Y.-H. Tseng, G.-
Y. Chen, C.-H. Chien, C.-F. Chu, Y.-L. Tung, Y. Chi and A. K.-
Y. Jen, J. Phys. Chem. B, 2005, 109, 14000.
Ministry of Economy (98-EC-17-A-08-S1-042) and National
Science Council (NSC 97-3114-M-007-002) of Republic of China
supported this research.
11 (a) C. Hosokawa, H. Higashi, H. Nakamura and T. Kusumoto, Appl.
Phys. Lett., 1995, 67, 3853; (b) K. Suzuki, A. Seno, H. Tanabe and
K. Ueno, Synth. Met., 2004, 143, 89; (c) M. S. Kim, B. K. Choi,
T. W. Lee, D. Shin, S. K. Kang, J. M. Kim, S. Tamura and
T. Noh, Appl. Phys. Lett., 2007, 91, 251111; (d) K. H. Lee,
L. K. Kang, Y. S. Kwoo, J. Y. Lee, S. Kang, G. Y. Kim, J. H. Seo,
Y. K. Kim and S. S. Yoon, Thin Solid Films, 2010, 518, 5091.
12 (a) M. T. Lee, C. H. Liao, C. H. Tsai and C. H. Chen, Adv. Mater.,
2005, 17, 2493; (b) Z. Q. Gao, B. X. Mi, C. H. Chen, K. W. Cheah,
Y. K. Cheng and W.-S. Wen, Appl. Phys. Lett., 2007, 90, 123506.
13 (a) S. O. Jeon, Y. M. Jeon, J. W. Kim, C. W. Lee and M. S. Gong,
Synth. Met., 2007, 157, 558; (b) K. S. Kim, Y. M. Jeon, J. W. Kim,
C. W. Lee and M. S. Gong, Org. Electron., 2008, 9, 797; (c)
K. H. Lee, L. K. Kang, J. Y. Lee, S. Kang, S. O. Jeon, K. S. Yook,
J. Y. Lee and S. S. Yoon, Adv. Funct. Mater., 2010, 20, 1345; (d)
J. H. Seo, K. H. Lee, B. M. Seo, J. R. Koo, S. J. Moon, J. K. Park,
S. S. Yoon and Y. K. Kim, Org. Electron., 2010, 11, 1605.
14 K. R. Wee, H. C. Ahn, H. JinSon, W. S. Han, J. E. Kim, D. W. Cho
and S. O. Kang, J. Org. Chem., 2009, 74, 8472.
15 (a) B. Ding, W. Zhu, X. Jiang and Z. Zhang, Curr. Appl. Phys., 2008,
8, 573; (b) K. H. Lee, J. N. You, S. Kang, J. Y. Lee, H. J. Kwon,
Y. K. Kim and S. S. Yoon, Thin Solid Films, 2010, 518, 6253.
16 (a) S. H. Lin, F. I. Wu and R. S. Liu, Chem. Commun., 2009, 6961; (b)
G. A. Chotana, M. A. Rak and M. R. Smith, J. Am. Chem. Soc., 2005,
127, 10539; (c) T. Hatakeyama, T. Hashimoto, Y. Kondo,
Y. Fujiwara, H. Seike, H. Takaya, Y. Tamada, T. Ono and
M. Nakamura, J. Am. Chem. Soc., 2010, 132, 10674; (d)
G. A. Chotana, B. A. Vanchura, M. K. Tse, R. J. Staples,
R. E. Maleczka and M. R. Smith, Chem. Commun., 2009, 5731; (e)
T. Ishiyama, M. Murata and N. Miyaura, J. Org. Chem., 1995, 60,
7508.
References
1 C. W. Tang and S. A. Van Slyke, Appl. Phys. Lett., 1987, 51, 913.
2 (a) L. S. Hung and C. H. Chen, Mater. Sci. Eng., R, 2002, 39, 143; (b)
C. H. Chen, C. W. Tang, J. Shi and K. P. Klubek, Macromol. Symp.,
1998, 125, 49; (c) S. Miyata and H. S. Nalwa, ed. Organic
Electroluminescent Materials and Devices, Gordon and Breach, New
York, 1997; (d) T. Wakimoto, H. Ochi, S. Kawami, H. Ohata,
K. Nagayama, R. Murayama, H. Okuda, T. Tohma, T. Naito and
H. Abiko, J. Soc. Inf. Disp., 1997, 5, 235; (e) P. E. Burrows, G. Gu,
V. Bulovic, Z. Shen, S. R. Forrest and M. E. Thompson, IEEE
Trans. Electron Devices, 1997, 44, 1188.
3 (a) Y.-H. Kim, D.-C. Shin, S.-H. Kim, C.-H. Ko, H.-S. Yu, Y.-
S. Chae and S.-K. Kwon, Adv. Mater., 2001, 13, 1690; (b) J. Shi
and C. W. Tang, Appl. Phys. Lett., 2002, 80, 3201; (c) Y.-H. Kim,
H.-C. Jeong, S.-H. Kim, K. Yang and S.-K. Kwon, Adv. Funct.
Mater., 2005, 15, 1799; (d) P.-T. Shih, C.-Y. Chuang, C.-H. Chien,
E. W.-G. Diau and C.-F. Shu, Adv. Funct. Mater., 2007, 17, 1341;
(e) Y. Y. Lyu, J.K., O. Kwon, S. H. Lee, D. Kim, C. Lee and
K. Char, Adv. Mater., 2008, 20, 2720; (f) C. H. Wu, C. H. Chien,
F. M. Hsu, P. I. Shih and C. F. Shu, J. Mater. Chem., 2009, 19,
1464; (g) C. J. Zheng, W. M. Zhao, Z. Q. Wang, D. Huang, J. Ye,
X. M. Ou, X. H. Zhang, C. S. Lee and S. T. Lee, J. Mater. Chem.,
2010, 20, 1560; (h) S. Ye, J. Chen, C.-A. Di, Y. Liu, K. Lu, W. Wu,
C. Du, Y. Liu, Z. Shuai and G. Yu, J. Mater. Chem., 2010, 20,
3186; (i) Z.-Y. Xia, Z.-Y. Zhang, J.-H. Shu, Q. Zhang, K.-M. Fung,
M.-K. Lam, K.-F. Li, W.-Y. Wong, K.-W. Cheah, H. Tian and
C. H. Chen, J. Mater. Chem., 2010, 20, 3768.
17 F. B. Gianluca, M. Farinola, F. Naso and R. Ragni, Chem. Commun.,
2007, 1003.
ꢀ
18 (a) V. Bulovic, A. Shoustikov, M. A. Baldo, E. Bose, V. G. Kozlov,
M. E. Thompson and S. R. Forrest, Chem. Phys. Lett., 1998, 287,
4 (a) S. E. Shaheen, G. E. Jabbour, M. M. Morrell, Y. Kawabe,
B. Kippelen, N. Peyghambarian, M.-F. Nabor, R. Schlaf,
E. A. Mash and N. R. Armstrong, J. Appl. Phys., 1998, 84, 2324;
(b) F.-I. Wu, P.-I. Shih, M.-C. Yuan, C.-F. Shu, Z.-M. Chung and
E. W.-G. Diau, J. Mater. Chem., 2005, 15, 4752; (c) Y. Duan,
Y. Zhao, P. Chen, J. Li, S. Liu, F. He and Y. Ma, Appl. Phys.
Lett., 2006, 88, 263503.
5 (a) C.-C. Wu, Y.-T. Lin, K.-T. Wong, R.-T. Chen and Y.-Y. Chien,
Adv. Mater., 2004, 16, 61; (b) F.-I. Wu, C.-F. Shu, T.-T. Wang,
E. W.-G. Diau, C.-H. Chien, C.-H. Chuen and Y.-T. Tao, Synth.
Met., 2005, 151, 285; (c) Z. P. Silu, X. Zhang, J. Tang, C. S. Lee
and S.-T. Lee, J. Phys. Chem. C, 2008, 112, 2165.
6 (a) H.-T. Shih, C.-H. Lin, H.-S. Shih and H.-C. Cheng, Adv. Mater.,
2002, 14, 1409; (b) J.-Y. Yu, M.-J. Huang, C.-H. Chen, C.-S. Lin and
C.-H. Cheng, J. Phys. Chem. C, 2009, 113, 7405; (c)
H. P. Rathnayake, A. Cirpan, Z. Delen, P. M. Lahti and
F. E. Karasz, Adv. Funct. Mater., 2007, 17, 115; (d)
ꢀ
455; (b) C. F. Madigan and V. Bulovic, Phys. Rev. Lett., 2003, 91,
247403.
19 J. Pommerehne, H. Vestweber, W. Guss, R. F. Mahrt, H. Bassler,
M. Porsch and J. Daub, Adv. Mater., 1995, 7, 551.
20 (a) R. C. Kwong, M. R. Nugent, L. Michalski, T. Ngo, K. Rajan, Y.-
J. Tung, M. S. Weaver, T. X. Zhou, M. Hack, M. E. Thompson,
S. R. Forrest and J. J. Brown, Appl. Phys. Lett., 2002, 81, 162; (b)
J.-W. Kang, D.-S. Lee, H.-D. Park, J. W. Kim, W.-I. Jeong, Y.-
S. Park, S.-H. Lee, K. Go, J.-S. Lee and J.-J. Kim, Org. Electron.,
2008, 9, 452; (c) H. Morishita, H. Kawamura and C. Hosokawa, U.
S. Pat. Appl. Publ., 2007, US20070160905.
21 C. Ganzoring and M. Fujihira, Appl. Phys. Lett., 2000, 77,
4211.
8128 | J. Mater. Chem., 2011, 21, 8122–8128
This journal is ª The Royal Society of Chemistry 2011