Page 13 of 25
Crystal Growth & Design
8 (a) Yang, S.-Y.; Naumov, P.; Fukuzumi, S. J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 7247-7248. (b) Blanco, V.;
Abella, D.; Pia, E.; Platas-Iglesias, C.; Peinador, C.; Quintela, J.M. Inorg. Chem. 2009, 48, 4098-
4107. (c) Kumagai, H.; Akita-Tanaka, M.; Kawata, S.; Inoue, K.; Kepert, C.J.; Kurmoo, M. Cryst.
Growth Des. 2009, 9, 2734-2741. (d) Banerjee, S.; Adarsh, N.N.; Dastidar, P. CrystEngComm 2009,
11, 746-749.
1
2
3
4
5
6
7
8
9
9 (a) Schottel, B. L.; Chifotides, H. T.; Shatruk, M.; Chouai, A.; Pérez, L. M.; Bacsa, J.; Dunbar, K. R.
J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 5895-5912. (b) Campos-Fernandez, C. S.; Schottel, B. L.; Chifotides,
H. T.; Bera, J. K.; Bacsa, J.; Koomen, J. M.; Russell, D. H.; Dunbar, K. R. J. Am. Chem. Soc. 2005,
127, 12909-12923.
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
21
22
23
24
25
26
27
28
29
30
31
32
33
34
35
36
37
38
39
40
41
42
43
44
45
46
47
48
49
50
51
52
53
54
55
56
57
58
59
60
10 (a) Hsu, Y.-F.; Hsu, W.; Wu, C.-J.; Cheng, P.-C.; Yeh, C.-W.; Chang, W.-J.; Chen, J.-D.; Wang, J.-
C. CrystEngComm 2010, 12, 702-710; (b) Plater, M. J.; Gelbrich, T.; Hursthouse, M. B.; De Silva, B.
M. CrystEngComm 2008, 10, 125-130.
11 Bai, Y.; Gao, H.; Dang, D.-B.; Guo, X.-Y.; An, B.; Shang, W.-L. CrystEngComm 2010, 12, 1422-
1432.
12 (a) Hao, Y.; Wu, B.; Li, S.; Jia, C.; Huang, X.; Yang, X.-J. CrystEngComm 2011, 13, 215-222; (b)
Wu, B.; Liang, J.; Zhao, Y.; Li, M.; Li, S.; Liu, Y.; Zhang, Y.; Yang, X.-J. CrystEngComm 2010, 12,
2129-2134; (c) Li, S.; Wu, B.; Hao, Y.; Liu, Y.; Yang, X.-J. CrystEngComm 2010, 12, 2001-2004;
(d) Adarsh, N. N.; Kumar, D. K.; Dastidar, P. Cryst. Growth Des. 2009, 9, 2979-2983; (e) Liang, J.;
Wu, B.; Jia, C.; Yang, X.-J. CrystEngComm 2009, 11, 975-977; (f) Adarsh, N. N.; Kumar, D. K.;
Dastidar, P. CrysEngComm 2008, 10, 1565-1573; (g) Zeng, Q.; Li, M.; Wu, D.; Lei, S.; Liu, C.; Piao,
L.; Yang, Y.; An, S.; Wang, C. Cryst. Growth Des. 2008, 8, 869-876.
13 (a) Kumar, D. K.; Das, A.; Dastidar, P. Cryst. Growth Des. 2006, 6, 1903-1909; (b) Pansanel, J.;
Jouaiti, A.; Ferlay, S.; Hosseini, M. W.; Planeix, J.-M.; Kyritsakas, N. New J. Chem. 2006, 30, 683-
688; (c) Kumar, D. K.; Das A.; Dastidar, P. J. Mol. Struct. 2006, 796, 139-145; (d) Burchell, T. J.;
Eisler, D. J.; Puddephatt, R. J. Inorg. Chem. 2004, 43, 5550-5557; (e) Burchell, T. J.; Eisler, D. J.;
Puddephatt, R. J. Chem. Commun. 2004, 944-945; (f) Uemura, K.; Kitagawa, S.; Fukui, K.; Saito, K.
J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 3817-3828; (g) Burchell, T. J.; Eisler, D. J.; Jennings, M. C.;
Puddephatt, R. J. Chem. Commun. 2003, 2228-2229.
14 (a) Freitas, M. C. R.; António, J. M. S.; Ziolli, R. L.; Yoshida, M. I.; Rey, N. A.; Diniz, R.
Polyhedron 2011, 30,1922-1926; (b) Sun, D.; Wei, Z.-H.; Yang, C.-F.; Wang, D.-F.; Zhang, N.;
Huang, R.-B.; Zhang, L.-S. CrystEngComm 2011, 13,1591-1601; (c) Du, M.; Zhang, Z.-H.; Wang,
X.-G.; Zhao, X.-J. Inorg. Chim. Acta 2009, 362, 1358-1360; (d) Ni, W.-X.; Li, M.; Zhan, S.-Z.; Hou,
J.-Z.; Li, D. Inorg. Chem. 2009, 48, 1433-1441; (e) Niu, C.-Y.; Zheng, X.-F.; Bai, L.-L.; Wu, X.-L.;
13
ACS Paragon Plus Environment