S. Debus, B. Harbrecht
leiht. Entsprechend sind die Chalkogenatome einsei-
tig, und zwar von drei bis fuÈnf Ta-Atomen, umgeben.
BeruÈcksichtigt man die unterschiedliche GroÈûe der
Chalkogenatome und die Gemischtbesetzung der La-
gen, dann liegen die gemittelten AbstaÈnde im Ab-
standsspektrum entprechend koordinierter Chalkogen-
atome anderer tantalreicher Chalkogenide [1, 3, 12,
18, 26]. Die Chalkogenatome jener Lage, die aus-
schlieûlich von dem leichteren Homologen eingenom-
men wird, haben eine besondere Funktion: sie
verbruÈcken die Ta6 benachbarter Schichtpakete. Al-
lerdings ist die einzelne Bindung zur benachbarten
Schicht dem Abstand von 286 pm nach bewertet er-
heblich schwaÈcher als die drei Bindungen zur ersten
Schicht .261 pm .2 ´ ) und 263 pm). Die Kontakte zwi-
schen den Chalkogen-Atomen untereinander sind
locker. Die AbstaÈnde deuten auf van der Waals-Wech-
selwirkungen hin. Einige AbstandsverkuÈrzungen ge-
genuÈber der Summe der van der Waals-Radien lassen
sich auf Matrixeffekte, die von der Optimierung der
Bindungswechselwirkungen in der Ta-Teilstruktur
herruÈhren, zuruÈckfuÈhren. AuffaÈllig kurz sind nur die
InterschichtabstaÈnde Se1±Se1 .324 pm) und Se1±Q4
.336 pm). So kurze AbstaÈnde sind nicht untypisch fuÈr
metallreiche Selenide, z. B. 327 pm in Ta11Si2Se8 [16]
bzw. 311 pm in Ta8NiSe8 [5]. Die Interschichtkontakte
des quaternaÈren Selenids liegen ansonsten im Er-
wartungsbereich von van der Waals-AbstaÈnden
.³ 385 pm). Sie sind beim Sulfid deutlich kuÈrzer
.³ 368 pm). Im van der Waals-Bereich zwischen den
Schichten aneinandergrenzender Chalkogenatome be-
finden sich trigonal-prismatische und einfach uÈber-
kappt trigonal-prismatische LuÈcken. Sie sind groû ge-
nug .< dZ-7Q > = 290 pm, Z: Zentrum der LuÈcke), um
kleinen Metallionen Platz zu bieten. Intercalations-
experimente werden zeigen, ob diese metallreichen
Silicidchalkogenide sich unter milden Bedingungen
weiter reduzieren lassen und in Bereichen aneinander-
grenzender Schichten von Chalkogenatomen fuÈr die
Aufnahme von GaÈsten hinreichend flexibel sind.
Abb. 4 Zwei uÈber ein gemeinsames Ta-Atom verknuÈpfte
tetrakaidekaedrische Ta9Si-Cluster.
die Ta-Teilstruktur begrenzt. Sie kommen in zahlrei-
chen Ta±Ta-AbstaÈnden zum Ausdruck, die mit
283±324 pm im Bereich interatomarer Kontakte in
bcc-Tantal .286 bzw. 330 pm [23]) liegen. Die Teil-
strukturen von Silicium und Chalkogen sind raÈumlich
getrennt, was die dominante AffinitaÈt der Nichtme-
talle zur Mehrheitskomponente Tantal widerspiegelt:
d
Si±Ta = 249±275 pm und dQ±Ta = 261±302 pm. Die Ab-
staÈnde Si±Si .³ 351 pm), Si±Q .³ 400 pm) und Q±Q
.dTe±Te ³ 351) liegen weit auûerhalb kovalenter Bin-
dungsabstaÈnde. Dementsprechend sind auch die
Wechselwirkungen zwischen den nanometerdicken
Schichtpaketen schwach. Ihr Zusammenhalt ist durch
wenige kovalente Ta±Se- bzw. Ta±S-Kontakte und zu-
saÈtzliche Wechselwirkungen vom van der Waals-Typ
gewaÈhrleistet.
Die charakteristische Baugruppe der Struktur, zwei
uÈber Ta1 verschmolzene, dreifach uÈberdachte trigonal-
prismatische Ta9Si-Cluster, ist in Abb. 4 dargestellt.
Der mittlere Ta±Si-Abstand ist mit 261 pm vergleich-
bar mit dem in Ta11Si2Se8 .262 pm [16]) und damit et-
was kleiner als in binaÈren Siliciden .z. B. 267 pm in
Ta5Si3 .Mn5Si3-Typ) [24]). Aus der spezifischen Orien-
tierung beider Ta9Si-Tetrakaidekaeder zueinander er-
gibt sich fuÈr Ta1 eine verzerrt kubische Koordination
von acht Ta-Atomen. Die Cluster sind in den quater-
naÈren Verbindungen im Vergleich zum Selenid
Ta11Si2Se8 [16] laÈngs der pseudo-dreizaÈhligen Achse
parallel zur kurzen b-Achse um etwa 4 pm aufgewei-
tet, dafuÈr aber in der pseudo-trigonalen Ebene um et-
wa 3 pm verkuÈrzt. Da die kuÈrzesten Te±Te-Kontakte
zwischen den Atomen auftreten, die uÈber die Trans-
lation in b-Richtung gekoppelt sind, laÈsst sich das je-
weils verbindungsspezifische Verzerrungsmuster der
Cluster bei gleicher integraler Ta±Si-BindungsstaÈrke
.bewertet nach den AbstaÈnden) mit der Minimierung
abstoûender Wechselwirkungen zwischen den Chalko-
gen-Atomen deuten. Ta7 und Ta8 verknuÈpfen die ko-
Experimenteller Teil
Synthese: Die Silicidchalkogenide Ta15Si2QxTe10±x .Q = S,
Se) sind ausgehend von den jeweiligen Dichalkogeniden,
Tantal und Silicium uÈber Hochtemperatur-Synthesen zugaÈng-
lich. Fremdphasenfreie, mikrokristalline Proben wurden im
800 mg-Maûstab aus entsprechenden Eduktgemengen in gas-
dicht verschweiûten MolybdaÈntiegeln erhalten .Induktions-
ofen: 1770 K, 2 h). Umsetzungen in Tantaltiegeln .wider-
standsbeheizte RohroÈfen: 1570±1670 K, 2±4 d) lieferten
mehrphasige Reaktionsprodukte, in denen die Verbindungen
Ta15Si2QxTe10±x .Q = S, Se) im Gemenge mit staÈrker redu-
zierten Tantalchalkogeniden ± in der Regel Ta5.S,Te)2 [25]
bzw. Ta5.Se,Te)3 [26] und/oder Ta2.Se,Te) [27]) ± vorlagen.
In Gegenwart verschiedener Mineralisatoren .wenige Mil-
ligramm I2, TeI4 oder TeBr4) wurden die Silicidchalkogenide
grobkristallin in Form von watteartig verflochtenen, bieg-
samen Fasern erhalten .Faserdurchmesser gewoÈhnlich
1
1
lumnaren [Ta11Si2]-Baugruppen zur schichtartig auf-
gebauten Teilstruktur. Diese Zwischenbereiche lassen
sich als Fragmente der kubisch innenzentrierten Ele-
mentanordnung deuten, die an der Peripherie teilwei-
se von den Te-Atomen ergaÈnzt werden. Sie bedecken
die OberflaÈchen der Ta-Teilstruktur, was der Struktur
insgesamt einen niederdimensionalen Charakter ver-
434
Z. Anorg. Allg. Chem. 2001, 627, 431±438