M. Ruck
Allerdings hat der NiAs-Typ einen VerknuÈpfungsgrad
zwischen den Nickelatomen von lediglich zwei, waÈh-
rend er in BiNi im Mittel bei nahezu vier liegt!
Literatur
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[2] G. Voss, Z. Anorg. Chem. 1908, 57, 34.
In Richtung der c-Achse ist die VerknuÈpfung zwi-
schen den Nickelatomen besonders ausgepraÈgt. Dies
aÈuûert sich auch unmittelbar im Kristallwachstum, das
bevorzugt laÈngs c erfolgt und zu der stark anisotropen
Nadelform der Kristalle fuÈhrt. Hingegen unterschei-
den sich die linearen thermischen Ausdehnungskoeffi-
zienten, die roÈntgenographisch am Einkristall ermit-
telt wurden, fuÈr die verschiedenen Raumrichtungen
nicht wesentlich: sie betragen in Richtung der a-Achse
1,40 ´ 10±5 K±1, in b-Richtung 1,46 ´ 10±5 K±1 und in c-
Richtung 1,39 ´ 10±5 K±1.
Interessante Parallelen finden sich zwischen dem in
BiNi vorliegenden Netzwerk aus Nickelatomen und
der Nickelteilstruktur im Subiodid Bi5,6Ni5I, welches
durch partielle Oxidation von BiNi mit Iod dargestellt
werden kann [20]. Auch dort findet man um ein Nik-
kelatom vier naÈchste Nickelnachbarn in Schmetter-
lingsanordnung sowie sechs koordinierende Bismut-
atome.
Obwohl die Struktur von BiNi enge BezuÈge zum
NiAs- bzw. InNi2-Typ aufweist, kann sie als Ganzes
gesehen nicht topologisch nach dem Gruppe-Unter-
gruppe-Formalismus [21] aus den genannten Struktur-
typen entwickelt werden. Dies gelingt jedoch pro-
blemlos mit einem Schichtpaket, das den Bereich von
z = 1/4 bis z = 3/4 in der Elementarzelle umfaût. Um
zur Gesamtstruktur zu gelangen, muÈssen diese
Schichtpakete dann mit dem Schervektor b/2 gestapelt
werden. In guter NaÈherung erfuÈllt ein solches Paket
die Schichtsymmetrie P (±3) m 1 mit aSchicht = 2 asub
und cSchicht = 2 csub. Die hohe Schichtsymmetrie der
Pakete erklaÈrt die ausgepraÈgte Pseudosymmetrie der
Verbindung, welche die im experimentellen Teil ge-
schilderten Zwillingsbildungen nach sich zieht.
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Herrn Dr. M. Ellner, Max-Planck-Institut fuÈr Metallfor-
schung Stuttgart, wird fuÈr eine intensive Diskussion gedankt.
Diese Arbeit wurde vom Fonds der Chemischen Industrie
gefoÈrdert.
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Z. Anorg. Allg. Chem. 1999, 625, 2050±2054