Paper
RSC Advances
19 Q. Zhang, H. kuwabara, W. J. Postcavage, S. Huang, Y. Hatae,
T. Shibata and C. Adachi, J. Am. Chem. Soc., 2014, 136,
18070–18081.
20 D. H. Kim, A. D'Aleo, X. K. Chen, A. D. S. Sandanayaka,
D. D. Yao, L. Zhao, T. Komino, E. Zaborova, G. Canard,
Y. Tsuchiya, E. Y. Choi, J. W. Wu, F. Fages, J. L. Bredas,
J. C. Ribierre and C. Adachi, Nat. Photonics, 2018, 12, 98.
21 H. Tanaka, K. Shizu, H. Nakanotani and C. Adachi, Chem.
Mater., 2013, 25, 3766–3771.
R. Fukuda, J. Hasegawa, M. Ishida, T. Nakajima, Y. Honda,
O. Kitao, H. Nakai, T. Vreven, J. A. Montgomery Jr,
J. E. Peralta, F. Ogliaro, M. Bearpark, J. J. Heyd,
E. Brothers, K. N. Kudin, V. N. Staroverov, R. Kobayashi,
J. Normand, K. Raghavachari, A. Rendell, J. C. Burant,
S. S. Iyengar, J. Tomasi, M. Cossi, N. Rega, J. M. Millam,
M. Klene, J. E. Knox, J. B. Cross, V. Bakken, C. Adamo,
J. Jaramillo, R. Gomperts, R. E. Stratmann, O. Yazyev,
A. J. Austin, R. Cammi, C. Pomelli, J. W. Ochterski,
R. L. Martin, K. Morokuma, V. G. Zakrzewski, G. A. Voth,
P. Salvador, J. J. Dannenberg, S. Dapprich, A. D. Daniels,
22 Y. J. Cho, S. K. Jeon and Y. J. Lee, Adv. Opt. Mater., 2016, 4,
688–693.
¨
23 Y. Im, M. Kim, Y. J. Cho, J. A. Seo, K. S. Yook and J. Y. Lee,
Chem. Mater., 2017, 29, 1946–1963.
O. Farkas, J. B. Foresman, J. V. Ortiz, J. Cioslowski and
D. J. Fox, Gaussian 09, D.01, Gaussian, Inc., Wallingford
24 L. S. Cui, H. Nomura, Y. Geng, J. U. Kim, H. Nakanotani and
C. Adachi, Angew. Chem., 2017, 129, 1593–1597.
25 C. S. Oh, D. de Sa Pereira, S. H. Han, H. J. Park,
CT, 2009.
38 S. Hirata and M. Head-Gordon, Chem. Phys. Lett., 1999, 314,
291–299.
H. F. Higginbotham, A. P. Monkman and J. Y. Lee, ACS 39 M. J. Peach, M. J. Williamson and D. J. Tozer, J. Chem. Theory
Appl. Mater. Interfaces, 2018, 10, 35420–35429. Comput., 2011, 7, 3578–3585.
26 K. Wang, Y. Z. Shi, C. J. Zheng, W. Liu, K. Liang, X. li, 40 T. Lu and F. Chen, J. Comput. Chem., 2012, 33, 580–592.
M. Zhang, H. Lin, S. L. Tao, C. S. Lee, X. M. Ou and 41 C. Wang, C. Deng, D. Wang and Q. Zhang, J. Phys. Chem. C,
X. H. Zhang, ACS Appl. Mater. Interfaces, 2018, 19, 31515–
31525.
27 Y. J. Cho, S. K. Jeon, B. D. Chin, E. Yu and J. Y. Lee, Angew.
Chem., 2015, 127, 5290–5293.
2018, 122, 7816–7823.
42 J. C. Ribierre, T. Aoyama, T. Muto, Y. Imase and T. Wada,
Org. Electron., 2008, 9, 396.
¨
43 T. Forster, Ann. Phys., 1948, 437, 55.
28 H. Tanaka, K. Shizu, H. Nakanotani and C. Adachi, J. Phys. 44 A. Ruseckas, J. C. Ribierre, P. E. Shaw, I. D. W. Samuel,
Chem. C, 2014, 118, 15985–15994. S. V. Staton and P. L. Burn, Appl. Phys. Lett., 2009, 95, 183305.
29 I. Marghad, D. H. Kim, X. Tian, F. Mathevet, C. Gosmini, 45 K. J. Lee, J. H. Woo, E. S. Kim, Y. Xiao, X. Su, L. M. Mazur,
J. C. Ribierre and C. Adachi, ACS Omega, 2018, 3, 2254–2260.
30 D. G. Chen, T. C. Lin, Y. A. Chen, T. C. Lin, Y. T. Chen and
P. T. Chou, J. Phys. Chem. C, 2018, 122, 12215–12221.
A. J. Attias, F. Fages, O. Cregut, A. Barsella, F. Mathevet,
L. Mager, J. W. Wu, A. D'Aleo and J. C. Ribierre, Phys.
Chem. Chem. Phys., 2016, 18, 7875.
31 Y. J. Lien, T. C. Lin, C. C. Yang, Y. C. Chiang, C. H. Chang, 46 A. D'Aleo, M. H. Sazzad, D. H. Kim, E. Y. Choi, J. W. Wu,
S. H. Liu, Y. T. Chen, G. H. Lee, P. T. Chou, C. W. Lu and
Y. Chi, ACS Appl. Mater. Interfaces, 2017, 9, 27090–27101.
G. Canard, F. Fages, J. C. Ribierre and C. Adachi, Chem.
Commun., 2017, 53, 7003–7006.
32 D. G. Chen, T. C. Lin, C. L. Chen, Y. T. Chen, Y. A. Chen, 47 K. J. Lee, Y. U. Lee, F. Fages, J. C. Ribierre, J. W. Wu and
G. H. Lee, P. T. Chou, C. W. Liao, P. C. Chiu, C. H. Chang, A. D'Aleo, Nano Lett., 2018, 18, 1476.
Y. J. Lien and Y. Chi, ACS Appl. Mater. Interfaces, 2018, 10, 48 V. Bulovic, V. Khaln, G. Gu, P. Burrows, D. Garbuzov and
12886–12896. S. R. Forrest, Phys. Rev. B, 1998, 58, 3730–3740.
33 J. S. Ward, R. S. Nobuyasu, M. A. Fox, A. S. Batsanov, 49 J. Huang, J. Blochwitz-Nimoth, M. Pfeiffer and K. Leo, J. Appl.
J. Santos, F. B. Dias and M. R. Bryce, J. Org. Chem., 2018,
83, 14431–14442.
34 K. Wang, C. J. Zheng, W. Liu, K. Liang, Y. Z. Shi, S. L. Tao,
Phys., 2003, 93, 838.
50 S. K. So, W. K. Choi, L. M. Leung and K. Neyts, Appl. Phys.
Lett., 1999, 74, 1939.
C. S. Lee, X. M. Ou and X. H. Zhang, Adv. Mater., 2017, 29, 51 W. M. V. Wan, N. C. Greenham and R. H. Friend, J. Appl.
1701476. Phys., 2000, 87, 2542.
35 M. Okazaki, Y. Takeda, P. Data, P. Pander, H. Higginbotham, 52 S. Hoe, T. Lutz, A. Egel, F. Nickel, S. W. Kettlitz, G. Gomard,
A. P. Monkman and S. Minakata, Chem. Sci., 2017, 8, 2677–
U. Lemmer and A. Colsmann, ACS Photonics, 2014, 1, 968–
2686.
973.
36 P. Pander, R. Motyka, P. Zassowski, M. K. Etherington, 53 C. Schmitz, M. Thelakkat and H. W. Schmidt, Adv. Mater.,
D. Versano, T. J. da Silva, M. J. Caldas, P. Data and
1999, 11, 821–826.
A. P. Monkman, J. Phys. Chem. C, 2018, 122, 23934–23942.
54 W. L. Barnes, J. Mod. Opt., 1998, 45, 661–699.
37 M. J. Frisch, G. W. Trucks, H. B. Schlegel, G. E. Scuseria, 55 Z. B. Wang, M. G. Helander, X. F. Xu, D. P. Puzzo, J. Qiu,
M. A. Robb, J. R. Cheeseman, G. Scalmani, V. Barone, M. T. Greiner and Z. H. Lu, J. Appl. Phys., 2011, 109, 053107.
B. Mennucci, G. A. Petersson, H. Nakatsuji, M. Caricato, 56 L. Zhao, T. Komino, M. Inoue, J. H. Kim, J. C. Ribierre and
X. Li, H. P. Hratchian, A. F. Izmaylov, J. Bloino, G. Zheng,
J. L. Sonnenberg, M. Hada, M. Ehara, K. Toyota,
C. Adachi, Appl. Phys. Lett., 2015, 106, 063301.
This journal is © The Royal Society of Chemistry 2019
RSC Adv., 2019, 9, 4336–4343 | 4343