Chemistry - An Asian Journal
10.1002/asia.201700112
FULL PAPER
and Al electrodes was 16 mm2 as the emissive size of devices. The
25. J. Harmenberg, B. Wahren, J. Bergman, S. Akerfeldt, L. Lundblad,
Antimicrob. Agents Chemother. 1988, 32, 1720-1724.
devices have the same 80 nm NPB, 60 nm Alq
Al. Figure 3 shows the energy level diagrams of the fabricated devices
and the molecular structures of TFBIQ, Alq and NPB used in these
3
, 0.7 nm LiF, and 120 nm
26. J. Harmenberg, A. Akessonjohansson, A. Graslund, T. Malmfors, J.
Bergman, B. Wahren, S. Akerfeldt, L. Lundblad, S. Cox, Antivir. Res.
1991, 15, 193-204.
3
devices. The current–voltage-brightness characteristics were measured
by using a Keithley source measurement unit (Keithley 2400 and Keithley
27. K. Manna, Y. K. Agrawal, Bioorg. Med. Chem. Lett. 2009, 19, 2688-2692.
28. N. R. Pai, D. A. Pusalkar, J. Chem. Pharm. Res. 2010, 2, 485-493.
29. L. W. Deady, A. J. Kaye, G. J. Finlay, B. C. Baguley, W. A. Denny, J. Med.
Chem. 1997, 40, 2040-2046.
2000) with a calibrated silicon photodiode. All devices were measured
without encapsulation at room temperature.
3
0. C. H. Fan, P. P. Sun, T. H. Su, C. H. Cheng, Adv. Mater. 2011, 23, 2981-
985.
1. P. Tyagi, A. Venkateswararao, K. R. J. Thomas, J. Org. Chem. 2011, 76,
571-4581.
2
Acknowledgements
3
4
We thank the 973 program (2015CB932200), the National
Natural Science Foundation of China (NSFC, 21502091,
32. K. R. J. Thomas, P. Tyagi, J. Org. Chem. 2010, 75, 8100-8111.
33. T. H. Su, C. H. Fan, Y. H. Ou-Yang, L. C. Hsu, C. H. Cheng, J. Mater.
Chem. C 2013, 1, 5084-5092.
6
1274065, 21603104, 21003706), and the Natural Science
Foundation of Jiangsu Province (BK20130912 and
4KJB430017) and Ministry of Education and Synergetic
34. A. Venkateswararao, P. Tyagi, K. R. J. Thomas, P. W. Chen, K. C. Ho,
Tetrahedron 2014, 70, 6318-6327.
1
35. X. Qian, H. H. Gao, Y. Z. Zhu, L. Lu, J. Y. Zheng, J. Power Sources 2015,
Innovation Center for Organic Electronics and Information
Displays for financial support.
2
80, 573-580.
36. E. Schunk, L. Marchlewski, Ber. 1895, 28, 2525-2531.
3
7. A. V. Ivashchenko, V. M. Dziomko, Russ. Chem. Rev. 1977, 46, 115-120.
8. R. Dowlatabadi, A. Khalaj, S. Rahimian, M. Montazeri, M. Amini, A.
Shahverdi, E. Mahjub, Synth. Commun. 2011, 41, 1650-1658.
3
Keywords: C-H direct arylation • 6H-indolo[2,3-b]quinoxaline •
hole injection layer • OLED •
39. A. J. Payne, J. S. J. McCahill, G. C. Welch, Dyes And Pigments 2015,
123, 139-146.
References:
40. J. R. Pouliot, F. Grenier, J. T. Blaskovits, S. Beaupre, M. Leclerc, Chem.
Rev. 2016, 116, 14225-14274.
4
1. M. L. Sun, W. S. Zhu, Z. S. Zhang, C. J. Ou, L. H. Xie, Y. Yang, Y. Qian,
Y. Zhao, W. Huang, J. Mater. Chem. C 2015, 3, 94-99.
1
.
.
S. Reineke, F. Lindner, G. Schwartz, N. Seidler, K. Walzer, B. Lussem, K.
Leo, Nature 2009, 459, 234-238.
42. C. Tang, R. Bi, Y. Tao, F. Wang, X. Cao, S. Wang, T. Jiang, C. Zhong, H.
Zhang, W. Huang, Chem. Commun. 2015, 51, 1650-1653.
2
T. L. Chiu, Y. P. Hsiao, Y. T. Chuang, C. M. Lai, H. C. Ho, Org. Electron.
2014, 15, 785-791.
4
4
4
3. W. Lu, J. Kuwabara, T. Kanbara, Macromolecules 2011, 44, 1252-1255.
4. M. Wakioka, Y. Kitano, F. Ozawa, Macromolecules 2013, 46, 370-374.
5. Q. H. Feng, Y. I. Han, M. N. Yu, B. Li, Y. Wei, L. H. Xie, W. Huang, Chin.
J. Polym. Sci. 2017, 35, 87-97.
3
.
.
T. Matsushima, C. Adachi, Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 253506.
4
C. F. Qiu, H. Y. Chen, M. Wong, H. S. Kwok, IEEE T. Electron Dev. 2002,
49, 1540-1544.
5
6
7
8
.
.
.
.
.
M. K. Leung, Y. H. Hsieh, T. Y. Kuo, P. T. Chou, J. H. Lee, T. L. Chiu, H.
J. Chen, Org. Lett. 2013, 15, 4694-4697.
46. L. Wang, G. W. Zhang, C. J. Ou, L. H. Xie, J. Y. Lin, Y. Y. Liu, W. Huang,
Org. Lett. 2014, 16, 1748-1751.
C. C. Lee, M. K. Leung, P. Y. Lee, T. L. Chiu, J. H. Lee, C. Liu, P. T.
Chou, Macromolecules 2012, 45, 751-765.
4
7. J. F. Zhao, J. I. Wong, J. K. Gao, G. Li, G. C. Xing, H. C. Zhang, T. C.
Sum, H. Y. Yang, Y. L. Zhao, S. L. A. Kjelleberg, W. Huang, S. C. J. Loo,
Q. C. Zhang, RSC Adv. 2014, 4, 17822-17831.
Q. Wang, J. Ding, D. Ma, Y. Cheng, L. Wang, X. Jing, F. Wang, Adv.
Funct. Mater. 2009, 19, 84-95.
4
8. J. B. Li, Q. C. Zhang, ACS Appl. Mater. Inter. 2015, 7, 28049-28062.
9. J. B. Li, S. Chen, Z. L. Wang, Q. C. Zhang, Chem. Rec. 2016, 16, 1518-
Y. J. Pu, G. Nakata, F. Satoh, H. Sasabe, D. Yokoyama, J. Kido, Adv.
Mater. 2012, 24, 1765-1770.
4
1530.
9
1
T. L. Chiu, P. Y. Lee, Int. J. Mol. Sci. 2012, 13, 7575-7585.
5
0. G. Li, H. M. Duong, Z. Zhang, J. Xiao, L. Liu, Y. Zhao, H. Zhang, F. Huo,
S. Li, J. Ma, F. Wudl, Q. Zhang, Chem. Commun. 2012, 48, 5974-5976.
1. H. M. Zhang, Q. Fu, W. J. Zeng, D. G. Ma, J. Mater. Chem. C 2014, 2,
0. K. Udagawa, H. Sasabe, C. Cai, J. Kido, Adv. Mater. 2014, 26, 5062-
066.
5
5
11. J. J. Huang, M. K. Leung, T. L. Chiu, Y. T. Chuang, P. T. Chou, Y. H.
9620-9624.
Hung, Org. Lett. 2014, 16, 5398-5401.
5
2. C. T. Lee, W. T. Yang, R. G. Parr, Phys. Rev. B 1988, 37, 785-789
3. G. W. T. M. J. Frisch, H. B. Schlegel, G. E. Scuseria, M. A. Robb, J. R.
Cheeseman, G. Scalmani, V. Barone, B. Mennucci, G. A. Petersson, H.
Nakatsuji, M. Caricato, X. Li, H. P. Hratchian, A. F. Izmaylov, J. Bloino, G.
Zheng, J. L. Sonnenberg, M. Hada, M. Ehara, K. Toyota, R. Fukuda, J.
Hasegawa, M. Ishida, T. Nakajima, Y. Honda, O. Kitao, H. Nakai, T.
Vreven, J. A. Montgomery, Jr., J. E. Peralta, F. Ogliaro, M. Bearpark, J. J.
Heyd, E. Brothers, K. N. Kudin, V. N. Staroverov, R. Kobayashi, J.
Normand, K. Raghavachari, A. Rendell, J. C. Burant, S. S. Iyengar, J.
Tomasi, M. Cossi, N. Rega, J. M. Millam, M. Klene, J. E. Knox, J. B.
Cross, V. Bakken, C. Adamo, J. Jaramillo, R. Gomperts, R. E. Stratmann,
O. Yazyev, A. J. Austin, R. Cammi, C. Pomelli, J. W. Ochterski, R. L.
Martin, K. Morokuma, V. G. Zakrzewski, G. A. Voth, P. Salvador, J. J.
Dannenberg, S. Dapprich, A. D. Daniels,O¨ . Farkas, J. B. Foresman, J. V.
Ortiz, J. Cioslowski and D. J. Fox, , Gaussian 09, Revision B.1, Gaussian,
Inc., Wallingford CT, 2009.
1
2. M. Shakutsui, H. Matsuura, K. Fujita, Org. Electron. 2009, 10, 834-842.
3. S. R. Tseng, S. C. Lin, H. F. Meng, H. H. Liao, C. H. Yeh, H. C. Lai, S. F.
Horng, C. S. Hsu, Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 163501.
5
1
14. J. Chen, D. Ma, Chem. Phys. 2006, 325, 225-230.
15. S. K. Kim, C. J. Lee, I. N. Kang, J. H. Lee, J. W. Park, Thin Solid Films
2006, 509, 132-136.
16. T. Ye, M. Zhu, J. Chen, Q. Fu, F. Zhao, C. Shi, Y. Hu, D. Ma. C. Yang, J.
Mater. Chem. 2012, 22, 6413-6418.
1
7. Y. Zhao, J. Chen, W. Chen, D. Ma, J. Appl. Phys. 2012, 111, 043716.
8. Y. Shirota, Y. Kuwabara, D. Okuda, R. Okuda, H. Ogawa, H. Inada, T.
Wakimoto, H. Nakada, Y. Yonemoto, S. Kawami, K. Imai, J. Lumin., 1997,
1
7
2-4, 985-991.
9. S. A. VanSlyke, C. H. Chen, C. W. Tang, Appl. Phys. Lett. 1996, 69,
160-2162.
1
2
2
2
0. M. G. Helander, Z. B. Wang, J. Qiu, M. T. Greiner, D. P. Puzzo, Z. W. Liu,
Z. H. Lu, Science 2011, 332, 944-947.
54. J. Zhao, J. I. Wong, C. Wang, J. Gao, V. Z. Y. Ng, H. Y. Yang, S. C. J.
1. C. Xu, P. Cai, X. Zhang, Z. Zhang, X. Xue, J. Xiong, J. Zhang, Sol.
Energy Mater. Sol. Cells 2017, 159, 136-142.
Loo, Q. Zhang, Chem. Asian J. 2013, 8, 665-669.
22. F. Wang, X. Qiao, T. Xiong, D. Ma, Org. Electron. 2008, 9, 985-993.
23. Z. Hongmei, X. Jianjian, Z. Wenjin, H. Wei, Displays 2014, 35, 171-175.
24. O.Hinsberg, Ber. 1886, 19, 483-488.
6
This article is protected by copyright. All rights reserved.