RSC Advances
Paper
3
3
3
3
4
4
4
4
6 S. Ye, F. Xiao, Y. X. Pan, Y. Y. Ma and Q. Y. Zhang, Mater. Sci. 53 B. X. Mi, P. F. Wang, M. W. Liu, H. L. Kwong, N. B. Wong,
Eng. Rep., 2010, 71, 1–34. C. S. Lee and S. T. Lee, Chem. Mater., 2003, 15, 3148–3151.
7 C. H. Huang and T. M. Chen, Opt. Express, 2010, 18, 5089– 54 J. D. Priest, G. Y. Zheng, N. Goswami, D. M. Eichhorn,
5
099.
8 A. Kar, S. Kundu and A. Patra, J. Phys. Chem. C, 2011, 115,
18–124.
9 Z. Lia, X. Lia, X. Zhanga and Y. Qian, J. Cryst. Growth, 2006,
91, 258–261.
C. Woods and D. P. Rillema, Inorg. Chem., 2000, 39, 1955–
1963.
55 J. Jayabharathi, V. Thanikachalam, K. Saravanan and
N. Srinivasan, J. Fluoresc., 2011, 21, 507–519.
56 K. Saravanan, N. Srinivasan, V. Thanikachalam and
J. Jayabharathi, J. Fluoresc., 2011, 21, 65–80.
57 J. Jayabharathi, V. Thanikachalam, N. Srinivasan and
K. Saravanan, J. Fluoresc., 2011, 21, 596–606.
1
2
0 P. P. Sahay, R. K. Mishra, S. N. Pandey, S. Jha and
M. Shamsuddin, Curr. Appl. Phys., 2013, 13, 479–486.
1 M. G. Tecedor, D. Maestre, A. Cremades and J. Piqueras, J.
Mater. Chem. C, 2016, 4, 5709–5716.
58 J. Jayabharathi, V. Thanikachalam and K. Saravanan, J.
Photochem. Photobiol., A, 2009, 208, 13–20.
2 G. Godinho, A. Walsh and G. W. Watson, J. Phys. Chem. C,
2
009, 113, 439–448.
59 S. Lamansky, P. Djurovich, D. Murphy, F. Abdel Razzaq,
H. F. Lee, C. Adachi, P. E. Burrows, S. R. Forrest and
M. E. Thompson, J. Am. Chem. Soc., 2001, 123, 4304–4312.
3 (a) M. J. Frisch, G. W. Trucks, H. B. Schlegel, G. E. Scuseria,
M. A. Robb, J. R. Cheeseman, G. Scalmani, V. Barone,
B. Mennucci, G. A. Petersson, H. Nakatsuji, M. Caricato, 60 M. G. Colombo, A. Hauser and H. U. Gudel, Inorg. Chem.,
X. Li, H. P. Hratchian, A. F. Izmaylov, J. Bloino, G. Zheng, 1993, 32, 3088–3092.
J. L. Sonnenberg, M. Hada, M. Ehara, K. Toyota, 61 S. Okada, K. Okinaka, H. Iwawaki, M. Furugori,
R. Fukuda, J. Hasegawa, M. Ishida, T. Nakajima, Y. Honda,
O. Kitao, H. Nakai, T. Vreven, J. A. Montgomery,
J. E. Peralta, F. Ogliaro, M. Bearpark, J. J. Heyd,
M. Hashimoto, T. Mukaide, J. Kamatani, S. Igawa,
A. Tsuboyama, T. Takiguchi and K. Ueno, Dalton Trans.,
2005, 9, 1583–1590.
E. Brothers, K. N. Kudin, V. N. Staroverov, R. Kobayashi, 62 K. C. Tang, K. L. Liu and I. C. Chen, Chem. Phys. Lett., 2004,
J. Normand, K. Raghavachari, A. Rendell, J. C. Burant, 386, 437–441.
S. S. Iyengar, J. Tomasi, M. Cossi, N. Rega, J. M. Millam, 63 (a) D. S. Mcclure, J. Chem. Phys., 1949, 17, 905–913; (b)
M. Klene, J. E. Knox, J. B. Cross, V. Bakken, C. Adamo,
J. Jaramillo, R. Gomperts, R. E. Stratmann, O. Yazyev,
W. L. Leong, P. S. Lee, S. G. Mhaisalkar, T. P. Chen and
A. Dodabalapur, Appl. Phys. Lett., 2007, 90, 042906–042910.
A. J. Austin, R. Cammi, C. Pomelli, J. W. Ochterski, 64 H. Bassler and B. Schweitzer, Acc. Chem. Res., 1999, 32, 173–
R. L. Martin, K. Morokuma, V. G. Zakrzewski, G. A. Voth, 182.
P. Salvador, J. J. Dannenberg, S. Dapprich, A. D. Daniels, 65 N. J. Turro, V. Ramamurthy and J. C. Scaiano,
O. Farkas, J. B. Foresman, J. V. Ortiz, J. Cioslowski, and ChemPhysChem, 2012, 88, 1033–1036.
D. J. Fox, Gaussian, Inc., Wallingford., CT, 2009, vol. 121, 66 C. K. Moon, K. H. Kim, J. W. Lee and J. J. Kim, Chem. Mater.,
pp. 150–166; (b) T. Lu and F. Chen, J. Comput. Chem., 2012,
3, 580–592.
4 S. Gnanam and V. Rajendran, J. Sol-Gel Sci. Technol., 2010,
3, 555–559.
5 X. Liu, J. Iqbal, Z. Wu, B. He and R. Yu, J. Phys. Chem. C, 2010,
14, 4790–4796.
2015, 27, 2767–2769.
3
67 H. Jou, Y. X. Lin, S. H. Peng, C. J. Li, Y. M. Yang, C. L. Chin,
J. J. Shyue, S. S. Sun, M. Lee, C. T. Chen, M. C. Liu,
C. C. Chen, G. Y. Chen, J. H. Wu, C. H. Li, C. F. Sung,
M. J. Lee and J. P. Hu, Adv. Mater., 2014, 26, 555–562.
68 R. S. Kesarkar, W. Mr ´o z, M. Penconi, M. Pasini, S. Destri,
M. Cazzaniga, D. Ceresoli, P. R. Mussini, C. Baldoli,
U. Giovanella and A. Bossi, Angew. Chem., 2016, 128, 2764–
2768.
4
4
4
5
1
6 V. Vasanthia, M. Kottaisamy, K. Anitha and
V. Ramakrishnan, Mater. Sci. Semicond. Process., 2018, 85,
141–149.
4
4
7 R. Mariappan, V. Ponnuswamy, P. Suresh, R. Suresh, 69 L. S. Cui, Y. Liu, X. Y. Liu, Z. Q. Jiang and L. S. Liao, ACS Appl.
M. Ragavendar and C. Sankar, Mater. Sci. Semicond.
Process., 2013, 16, 825–832.
8 V. Kumar, V. Kumar, S. Som, J. H. Neethling, E. Olivier,
O. M. Ntwaeaborwa and H. C. Swart, Nanotechnology, 2014,
Mater. Interfaces, 2015, 7, 11007–11014.
70 (a) J. Liu, Z. Zeng, X. Cao, G. Lu, L. H. Wang, Q. L. Fan,
W. Huang and H. Zhang, Small, 2012, 8, 3517–3522; (b)
Z. Wang, Y. Feng, S. Zhang, Y. Gao, Z. Gao, Y. Chen,
X. Zhang, P. Lu, B. Yang, P. Chen, Y. Mab and S. Liuc,
Phys. Chem. Chem. Phys., 2014, 16, 20772–20779.
25, 135701–135710.
4
9 G. Zhang, C. Xie, S. Zhang, S. Zhang and Y. Xiong, J. Phys.
Chem. C, 2014, 118, 18097–18109.
71 M. Lepeltier, F. M. Savary, B. Graff, J. Lalev ´e e, D. Gigmes and
F. Dumur, Synth. Met., 2015, 199, 139–146.
5
0 J. D. Prades, J. Arbiol, A. Cirera, J. R. Morante, M. Avella,
L. Zanotti, E. Comini, G. Faglia and G. Sberveglieri, Sens. 72 X. Yang, X. Xu, J. S. Dang, G. Zhou, C. L. Ho and W. Y. Wong,
Actuators, B, 2007, 126, 6–12. Inorg. Chem., 2016, 55, 1720–1727.
1 S. Samson and C. G. Fonstad, J. Appl. Phys., 1973, 44, 4618– 73 D. R. Martir, A. K. Bansal, V. D. Mascio, D. B. Cordes,
5
5
4621.
A. F. Henwood, A. M. Z. Slawin, P. C. J. Kamer, L. M. Sarti,
A. Perteg ´a s, H. J. Bolink, I. D. W. Samuel and
E. Z. Colman, Inorg. Chem. Front., 2016, 3, 218–235.
2 S. Lettieri, M. Causa, A. Setaro, F. Trani, V. Barone, D. Ninno
and P. Maddalena, J. Chem. Phys., 2008, 129, 244710–244714.
21220 | RSC Adv., 2020, 10, 21206–21221
This journal is © The Royal Society of Chemistry 2020