Please do not adjust margins
Dalton Transactions
DOI: 10.1039/C7DT00459A
ARTICLE
Journal Name
1
1
1
1
2
2
2
6 H. P. Jiao, X. Yu, Z. Q. Liu, P. Y. Kuang and Y. M. Zhang, RSC 49 A. F. Izmaylov, G. E. Scuseria and M. J. Frisch, J. Chem. Phys.,
Adv., 2015, , 16239–16249. 2006, 125, 104103.
7 H. Huang, X. Han, X. Li, S. Wang, P. K. Chu and Y. Zhang, ACS 50 A. V. Krukau, O. A. Vydrov, A. F. Izmaylov and G. E. Scuseria, J.
Appl. Mater. Interfaces, 2015, Chem. Phys., 2006, 125, 224106.
, 482−492.
8 P. Zhou, J. Yu and M. Jaroniec, Adv. Mater., 2014, 26, 4920– 51 R. Peverati and D. G. Truhlar, J. Chem. Phys., 2012, 136
935. 134704.
9 J. Yu, S. Wang, J. Low and W. Xiao, Phys. Chem. Chem. Phys., 52 F. Weigend and R. Ahlrichs, Phys. Chem. Chem. Phys., 2005,
013, 15, 16883–16890. 3297–3305.
0 A. Corma, H. Garcia and F. X. L. Xamena, Chem. Rev., 2010, 110
606–4655.
1 D. Farrusseng, S. Aguado and C. Pinel, Angew. Chem. Int. Ed.,
009, 48, 7502–7513.
5
7
,
,
4
7
2
,
53 M. J. Frisch, G. W. Trucks, H. B. Schlegel, G. E. Scuseria, M. A.
Robb, J. R. Cheeseman, G. Scalmani, V. Barone, B. Mennucci,
G. A. Petersson, H. Nakatsuji, M. Caricato, X. Li, H. P. Hratchian,
A. F. Izmaylov, J. Bloino, G. Zheng, J. L. Sonnenberg, M. Hada,
M. Ehara, K. Toyota, R. Fukuda, M. I. J. Hasegawa, T. Nakajima,
Y. Honda, O. Kitao, H. Nakai, T. Vreven, J. A. Montgomery Jr.,
J. E. Peralta, F. Ogliaro, M. Bearpark, J. J. Heyd, E. Brothers, K.
N. Kudin, V. N. Staroverov, R. Kobayashi, J. Normand, K.
Raghavachari, A. Rendell, J. C. Burant, S. S. Iyengar, J. Tomasi,
M. Cossi, N. Rega, J. M. Millam, M. Klene, J. E. Knox, J. B. Cross,
V. Bakken, C. Adamo, J. Jaramillo, R. Gomperts, R. E.
Stratmann, O. Yazyev, A. J. Austin, R. Cammi, C. Pomelli, J. W.
Ochterski, R. L. Martin, K. Morokuma, V. G. Zakrzewski, G. A.
Voth, P. Salvador, J. J. Dannenberg, S. Dapprich, A. D. Daniels,
Ö. Farkas, J. B. Foresman, J. V. Ortiz, J. Cioslowski, D. J. Fox,
Gaussian 09, Revision D.01, Gaussian Inc, Wallingford CT,
2009.
4
2
2 C. Sanchez, P. Belleville, M. Popall and L. Nicole, Chem. Soc.
Rev., 2011, 40, 696–753.
3 A. Betard and R. A. Fischer, Chem. Rev., 2011, 112, 1055–1083.
4 X. W. Liu, T. J. Sun, J. L. Hu and S. D. Wang, J. Mater. Chem. A,
2
2
2
016,
5 F. Xamena, A. Corma and H. Garcia, J. Phys. Chem. C, 2007,
11, 80–85.
4, 3584–3616
2
2
2
2
2
3
3
1
6 M. Alvaro, E. Carbonell, B. Ferrer, F. Xamena and H. Garcia,
Chem. Eur. J., 2007, 13, 5106–5112.
7 M. Dan‐Hardi, C. Serre, T. Frot, L. Rozes, G. Maurin, C. Sanchez
and G. Ferey, J. Am. Chem. Soc., 2009, 131, 10857–10859.
8 C. G. Silva, I. Luz, F. X. L. Xamena, A. Corma and H. Garcia,
Chem. Eur. J., 2010, 16, 11133–11138.
9 J. Gascon, M. D. Hernandez‐Alonso, A. R. Almeida, G. P. M. 54 B. Long, Y. Huang, H. Li, F. Zhao, Z. Rui, Z. Liu, Y. Tong and H.
Klink, F. Kapteijn and G. Mul, ChemSusChem, 2008, , 981–983. Ji, Ind. Eng. Chem. Res., 2015, 54, 12788–12794.
0 Y. H. Fu, D. R. Sun, Y. J. Chen, R. K. Huang, Z. X. Ding, X. Z. Fu 55 S. E. Miller, M. H. Teplensky, P. Z. Moghadam and D. Fairen‐
and Z. H. Li, Angew. Chem. Int. Ed., 2012, 51, 3364–3367. Jimennez, Interface Focus, 2016, 6, 20160027.
1
1 Y. Horiuchi, T. Toyao, M. Saito, K. Mochizuki, M. Iwata, H. 56 M. D. Allendorf, C. A. Bauer, R. K. Bhakta and R. J. T. Houk,
Higashimura, M. Anpo and M. Matsuoka, J. Phys. Chem. C,
012, 116, 20848−20853.
2 K. G. M. Laurier, F. Vermoortele, R. Ameloot, D. E. De Vos, J.
Hofkens and M. B. J. Roeffaers, J. Am. Chem. Soc., 2013, 135
4488−14491
Chem. Soc. Rev., 2009, 38, 1330–1352.
2
57 C. Shifu, J. Lei, T. Wenming and F. Xianliang, Dalton Trans.,
2013, 42, 10759–10768.
3
,
58 Y. Huang, H. Li, M. S. Balogun, W. Liu, Y. Tong, X. Lu and H. Ji,
1
ACS Appl. Mater. Interfaces, 2014, 6, 22920−22927.
3
3
3
3
3
3
3
4
4
4
3 P. Ju, Y. Xiang, Z. Xiang, M. Wang, Y. Zhao, D. Zhang, J. Yu and 59 S. Wu, J. Fang, X. Hong, K. S. Hui and Y. Chen, Dalton Trans.,
X. Han, RSC Adv., 2016, 6, 17483–17493. 2014, 43, 2611–2619.
4 L. Shi, T. Wang, H. Zhang, K. Chang, X. Meng, H. Liu and J. Ye, 60 S. Liang, S. Zhu, Y. Chen, W. Wu, X. Wang and L. Wu, J. Mater.
Adv. Sci., 2015, 2, 1500006. Chem., 2012, 22, 2670–2678.
5 W. Cho, S. Park and M. Oh, Chem. Commun., 2011, 47, 4138– 61 M. J. Islam, D. A. Reddy, J. Choi and T. K. Kim, RSC Adv., 2016,
140. 6, 19341–19350.
6 D. K. Lee, J. H. Park, J. Choi, Y. Lee, S. J. Kim, G. H. Lee, Y. H. 62 Z. Zhang, W. Wang, L. Wang and S. Sun, ACS Appl. Mater.
Kim and J. K. Kang, Nanoscale, 2014, , 10995–11001. Interfaces, 2012, , 593–597.
7 M. J. Islam, D. A. Reddy, N. S. Han, J. Choi, J. K. Song and T. K. 63 T. An, H. Yang, G. Li, W. Song, W. J. Cooper and X. Nie, Appl.
Kim, Phys. Chem. Chem. Phys., 2016, 18, 24984–24993. Catal. B, 2010, 94, 288–294.
8 L. Chi, Q. Xu, X. Liang, J. Wang and X. Su, small, 2016, 12, 1351– 64 J. He, J. Wang, Y. Chen, J. Zhang, D. Duan, Y. Wang and Z. Yan,
358. Chem. Commun., 2014, 50, 7063–7066.
4
6
4
1
9 C. S. Yan, H. Y. Gao, L. L. Gong, L. F. Ma, L. L. Dang, L. Zhang, P. 65 Z Chen, W. Wang, Z. Zhang and X. Fang, J. Phys. Chem. C, 2013,
P. Meng and F. Luo, J. Mater. Chem. A, 2016,
0 Z. Zhang, X. Li, B. Liu, Q. Zhao and G. Chen, RSC Adv., 2016,
289–4295.
4
, 13603–13610.
117, 19346–19352.
66 N. Tian, H. Huang, Y. He, Y. Guo, T. Zhang and Y. Zhang, Dalton
Trans., 2015, 44, 4297–4307.
6
,
4
1 K. Dai, L. Lu, C. Liang, G. Zhu, Q. Liu, L. Geng and J. He, Dalton 67 X. Zhang, G. Ji, Y. Liu, X. Zhou, Y. Zhu, D. Shi, P. Zhang, X. Caoc
Trans., 2015, 44, 7903–7910. and B. Wang, Phys. Chem. Chem. Phys., 2015, 17, 8078–8086.
2 D. S. Bhachu, S. J. A. Moniz, S. Sathasiviam, D. O. Scanlon, A. 68 B. Zhang, G. Ji, Y. Liu, M.A. Gondal and X. Chang, Catal.
Walsh, S. M. Bawaked, M. Mokhtar, A. Y. Obaid, I. P. Parkin, J.
Tang, and C. J. Carmalt, Chem. Sci., 2016, , 4832–4841.
3 A. Schoedel and M. J. Zaworotko, Chem. Sci., 2014, , 1269–
282.
Commun., 2013, 36, 25–30.
7
69 X. Chang, M.A. Gondal, A.A. Al‐Saadi, M.A. Ali, H. Shen, Q.
Zhou, J. Zhang, M. Du, Y. Liu and G. Ji, J. Colloid Interface Sci.,
2012, 377, 291–298.
4
4
4
4
4
4
5
1
4 T. M. Henderson, A. F. Izmaylov, G. Scalmani and G. E. 70 X. Zhang, X. Chang, M.A. Gondal, B. Zhang, Y. Liu and G. Ji,
Scuseria, J. Chem. Phys., 2009, 131, 044108.
5 J. Heyd, J. E. Peralta, G. E. Scuseria and R. L. Martin, J. Chem.
Phys., 2005, 123, 174101.
Appl. Surf. Sci., 2012, 258, 7826–7832.
6 J. Heyd and G. E. Scuseria, J. Chem. Phys., 2004, 121, 1187–
1
192.
7 J. Heyd and G. E. Scuseria, J. Chem. Phys., 2004, 120, 7274–
280.
8 J. Heyd, G. E. Scuseria and M. Ernzerhof, J. Chem. Phys., 2006,
24, 219906.
7
1
1
0 | J. Name., 2012, 00, 1‐3
This journal is © The Royal Society of Chemistry 20xx
Please do not adjust margins