RSC Advances
Paper
11 F. Dai, X. R. Fan, G. R. Stratton, C. L. Bellona, T. M. Holsen, 27 R. Wang, Y. Gong, H. J. Xu, S. Y. Wei and D. Y. Wu, Chin. J.
B. S. Crimmins, X. Y. Xia and S. M. Thagard, J. Hazard.
Mater., 2016, 308, 419–429, DOI: 10.1016/
j.jhazmat.2016.01.068.
12 S. Slamani, F. Abdelmalek, M. R. Redouane and A. Addou, J.
Inorg. Anal. Chem., 2018, 34, 906–916, DOI: 10.11862/
CJIC.2018.110.
28 M. Anbia, V. Hoseini and S. Sheykhi, J. Ind. Eng. Chem., 2012,
18, 1149–1152, DOI: 10.1016/j.jiec.2012.01.014.
´
Photochem. Photobiol., A, 2018, 359, 1–10, DOI: 10.1016/ 29 N. Torres, J. Galicia, Y. Plasencia, A. Cano, F. Echevarrıa,
j.jphotochem.2018.03.032.
13 C. M. Du, L. L. Zhang, J. Wang, C. R. Zhang, H. X. Li and
L. F. Desdin-Garcia and E. Reguera, Colloids Surf., A, 2018,
549, 138–146, DOI: 10.1016/j.colsurfa.2018.04.016.
Y. Xiong, Plasma Chem. Plasma Process., 2010, 30, 855–871, 30 Y. J. Li, G. S. Hou, J. Yang, J. Xie, X. L. Yuan, H. Yang and
DOI: 10.1007/s11090-010-9249-0.
M. M. Wang, RSC Adv., 2016, 6, 16395–16403, DOI:
´
´
´
ˇ
´
´
14 M. Markovic, M. Jovic, D. Stankovic, V. Kovacevic, G. Roglic,
10.1039/c5ra24915e.
´
´
´
G. Gordana Gojgic-Cvijovic and D. Manojlovic, Sci. Total 31 X. H. Li, W. L. Guo, Z. H. Liu, R. Q. Wang and H. Liu, Appl.
Environ.,
2015,
505,
1148–1155,
DOI:
10.1016/
Surf. Sci., 2016, 369, 130–136, DOI: 10.1016/
j.scitotenv.2014.11.017.
j.apsusc.2016.02.037.
15 J. L. Wang and L. J. Xu, Crit. Rev. Environ. Sci. Technol., 2012, 32 F. M. Zhang, Y. Jin, J. Shi, W. D. Zhu and M. S. El-Shall,
42, 251–325, DOI: 10.1080/10643389.2010.507698.
16 C. L. Chang and T. S. Lin, Plasma Chem. Plasma Process.,
2005, 25, 227–243, DOI: 10.1007/s11090-004-3034-x.
Chem. Eng. J., 2015, 269, 236–244, DOI: 10.1016/
j.cej.2015.01.092.
33 B. J. Zhu, X. Y. Yu, Y. Jia, F. M. Peng, B. Sun, M. Y. Zhang,
T. Luo, J. H. Liu and X. J. Huang, J. Phys. Chem. C, 2012,
116, 8601–8607, DOI: 10.1021/jp212514a.
¨
17 R. Thur, N. V. Velthovena, S. Slootmaekers, J. Diddena,
R. Verbekea, S. Smoldersa, M. Dickmannb, W. Eggerc,
D. D. Vosa and I. F. J. Vankelecom, J. Membr. Sci., 2019, 34 T. A. Vu, G. H. Le, C. D. Dao, L. Q. Dang, K. T. Nguyen,
576, 78–87, DOI: 10.1016/j.memsci.2019.01.016.
18 A. Shrivastav, S. Sundriyal, P. Goel, H. Kaur, S. K. Tuteja,
K. Vikrant, K. H. Kim, U. K. Tiwari and A. Deep, Coord.
K. Quang, Q. K. Nguyen, P. T. Dang, H. T. K. Tran,
Q. T. Duong, V. Tuyen, T. V. Nguyen and G. D. Lee, RSC
Adv., 2015, 5, 5261–5268, DOI: 10.1039/c4ra12326c.
Chem. Rev., 2019, 393, 48–78, DOI: 10.1016/j.ccr.2019.05.006. 35 L. Labiadh, M. A. Oturan, M. Panizza, N. B. Hamadi and
´
´
´
19 F. Martınez, P. Leo, G. Orcajo, M. Dıaz-Garcıab, M. Sanchez-
Sanchezb and G. Calleja, Catal. Today, 2018, 313, 6–11, DOI:
10.1016/j.cattod.2017.10.002.
S. Ammar, J. Hazard. Mater., 2015, 297, 34–41, DOI:
10.1016/j.jhazmat.2015.04.062.
36 A. Babuponnusami and K. Muthukumar, J. Ind. Eng. Chem.,
2014, 2, 557–572, DOI: 10.1016/j.jece.2013.10.011.
37 F. C. Moreira, R. A. R. Boaventura, E. Brillas and V. J. P. Vilar,
Appl. Catal., B, 2016, 202, 217–261, DOI: 10.1016/
j.apcatb.2016.08.037.
20 X. M. Tao, C. Sun, Y. Y. Han, L. Huang and D. Y. Xu,
CrystEngComm, 2019, 21, 1–24, DOI: 10.1039/C9CE00015A.
21 X. M. Tao, C. Sun, L. Huang, Y. Y. Han and D. Y. Xu, RSC
Adv., 2019, 9, 6379–6386, DOI: 10.1039/c8ra09211g.
22 P. Li, S. Kim, J. Jin, D. H. Chun and J. H. Park, Appl. Catal., B, 38 S. Ammar, M. A. Oturan, L. Labiadh, A. Guersalli,
2020, 263, 118284, DOI: 10.1016/j.apcatb.2019.118284.
23 T. D. Le, K. D. Nguyen, V. T. Nguyen, T. Truong and
R. Abdelhedi, N. Oturan and E. Brillas, Water Res., 2015,
74, 77–87, DOI: 10.1016/j.watres.2015.02.006.
N. T. S. Phan, J. Catal., 2016, 333, 94–101, DOI: 10.1016/ 39 S. Midassi, A. Bedoui and N. Bensalah, Chemosphere, 2020,
j.jcat.2015.10.026. 260, 127558, DOI: 10.1016/j.chemosphere.2020.127558.
24 G. Q. Song, Z. Q. Wang, L. Wang, G. R. Li, M. J. Huang and 40 Z. Q. Yang, H. L. Chen, J. H. Wang, Q. F. Yuan, F. Wang and
F. X. Yin, Chin. J. Catal., 2014, 35, 185–195, DOI: 10.1016/
B. H. Zhou, J. Environ. Chem. Eng., 2020, 8, 104057, DOI:
S1872-2067(12)60729-3.
10.1016/j.jece.2020.104057.
25 D. Z. Chen, S. S. Chen, Y. J. Jiang, S. S. Xie, H. Y. Quan, 41 X. L. Hao, M. H. Zhou, Y. Zhang and L. C. Lei, Plasma Chem.
L. Hua, X. B. Luo and L. Guo, RSC Adv., 2017, 7, 49024–
49030, DOI: 10.1039/c7ra09234b.
Plasma Process., 2006, 26, 455–468, DOI: 10.1007/s11090-006-
9028-0.
26 V. M. Kariuki, I. Y. azgan, A. Akgul, A. Kowal, A. Omowunmi,
M. Parlinska and O. A. Sadik, Environ. Sci.: Nano, 2015, 2,
518–527, DOI: 10.1039/C5EN00053J.
36370 | RSC Adv., 2020, 10, 36363–36370
This journal is © The Royal Society of Chemistry 2020